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產(chǎn)品介紹:

1200℃ CVD化學氣相沉積鍍膜系統(tǒng)工作溫度為300℃至1200℃，配備真空泵

，氣體混合裝置。采用了溫度控制系統(tǒng)

，高溫精度

，出色的氣體流量精度，易于操作

，有非常好的隔熱效果和溫度均勻性

。更多CVD設備可點擊更多查看。

1200度CVD化學氣相沉積鍍膜設備實拍圖

產(chǎn)品應用:

1200℃ CVD化學氣相沉積鍍膜系統(tǒng)適用于CVD工藝

，如碳化硅鍍膜

、陶瓷基片導電率測試、ZnO納米結構的可控生長

、陶瓷電容（MLCC）氣氛燒結等實驗

。主要用于大學，研究中心和生產(chǎn)企業(yè)進行氣相沉積相關的實驗與生產(chǎn)

。

產(chǎn)品參數(shù):

產(chǎn)品名稱	化學氣相沉積系統(tǒng)
產(chǎn)品型號	KJ-TCVD1200-S80LK1
管式爐部分
爐膛模式	開啟式
顯示模式	LED
爐膛材料	氧化鋁耐火纖維
加熱元件	合金加熱絲
極限溫度	1200℃
工作溫度	≤1100℃
升溫速率	0-10℃/min
加熱溫區(qū)	單溫區(qū)
溫區(qū)長度	440mm
爐管材質	高純石英
爐管外徑	80mm
爐管長度約	1000mm（以實際供貨為準）
密封方式	可重復拆裝的不銹鋼密封法蘭。拆裝方便，密封性好
控制模式	智能PID控制，具有多段可編程控溫和自整定功能
溫度曲線	多段"時間—溫度曲線"任意可設
報警	有超溫和斷偶報警
測溫元件	K型熱電偶
供電電源	220V 50Hz
加熱功率約	4KW
供氣系統(tǒng)
流量計	三路質量流量計（量程可根據(jù)需要選擇）
A路量程氮氣	0～1000SCCM
B路量程甲烷	0～500SCCM
C路量程乙烯	0～1000SCCM
混氣	內含一個精密混氣罐
供電電源	220V 50HZ
工作環(huán)境溫度	5℃-45℃
真空系統(tǒng)(含不銹鋼波紋管和相關連接配件)
真空泵抽速	2L/S抽速的機械旋片泵、波紋管及相關連接件，極限真空可實現(xiàn)10pa
數(shù)顯真空計	數(shù)顯電阻真空計集成在可移動供氣系統(tǒng)箱體上
配用規(guī)管	電阻規(guī)
測量范圍	1.0×105—1.0×10-1 (Pa)
測量精度	±10%
零點漂移	±2%
測量路數(shù)	1路
顯示路數(shù)	1個窗口
顯示方式	五位LED數(shù)字顯示，采用科學計數(shù)法，例：1.2E－1，表示為1.2×10-1Pa
電源	AC/220V/50Hz/15W
整機外形尺寸約	含真空泵，寬1000深600mm高1000mm