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比較常用的PECVD電爐(點(diǎn)擊圖片查看產(chǎn)品詳情)cIw管式爐|真空爐|箱式爐|氣氛爐-鄭州科佳電爐有限公司
用于制造集成電路中的介電層、低k介質(zhì)材料以及硅基光電子器件等。例如,在CMOS(互補(bǔ)金屬氧化物半導(dǎo)體)器件中,PECVD常用于柵極氧化層和場(chǎng)氧化層的制造,這些氧化層對(duì)于器件的性能和穩(wěn)定性很重要。cIw管式爐|真空爐|箱式爐|氣氛爐-鄭州科佳電爐有限公司
在制造微電子器件時(shí),PECVD技術(shù)能夠精確控制工藝參數(shù),在基板表面沉積高質(zhì)量的薄膜,如二氧化硅和氮化硅等電介質(zhì),用于隔離多個(gè)導(dǎo)電層和電容器
是制造太陽(yáng)能電池和光伏組件的主要沉積技術(shù)
PECVD技術(shù)可以制備具有各種光學(xué)功能的薄膜,如吸收
通過(guò)PECVD技術(shù)生產(chǎn)的致密惰性涂層具有良好的生物相容性和耐腐蝕性
PECVD納米鍍膜技術(shù)憑借其良好的電子防護(hù)性能,在汽車電子領(lǐng)域具有廣泛的應(yīng)用前景。它可以為電池管理系統(tǒng)(BMS)、車載傳感器、車燈透鏡、汽車內(nèi)飾件、電機(jī)與電控單元以及充電接口與連接器等關(guān)鍵部件提供可靠的防護(hù),提高系統(tǒng)的穩(wěn)定性和安全性。cIw管式爐|真空爐|箱式爐|氣氛爐-鄭州科佳電爐有限公司
類金剛石碳(DLC)等耐磨涂層可通過(guò)PECVD技術(shù)沉積在材料表面,很大提高材料的耐磨性和低摩擦性。這類涂層在機(jī)械零件、軸承、滑動(dòng)部件等領(lǐng)域具有廣泛的應(yīng)用前景。cIw管式爐|真空爐|箱式爐|氣氛爐-鄭州科佳電爐有限公司
PECVD技術(shù)還可用于生產(chǎn)具有良好阻隔性能的包裝材料,如薯片袋等食品包裝材料。這些包裝材料能夠有效保護(hù)食品免受外部污染物和濕氣的影響,延長(zhǎng)食品的保質(zhì)期。cIw管式爐|真空爐|箱式爐|氣氛爐-鄭州科佳電爐有限公司
在嚴(yán)苛的工業(yè)環(huán)境中,PECVD納米鍍膜技術(shù)可用于保護(hù)元器件和主板免受濕氣、化學(xué)品等侵蝕,提高產(chǎn)品的穩(wěn)定性和可靠性。cIw管式爐|真空爐|箱式爐|氣氛爐-鄭州科佳電爐有限公司cIw管式爐|真空爐|箱式爐|氣氛爐-鄭州科佳電爐有限公司
滑道PECVD管式爐(點(diǎn)擊圖片查看產(chǎn)品詳情)cIw管式爐|真空爐|箱式爐|氣氛爐-鄭州科佳電爐有限公司
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