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PECVD等離子增強化學氣相沉積系統(tǒng)-百科PECVD系統(tǒng)是一種基于等離子體化學氣相沉積技術的薄膜沉積設備
，主要用于在各種材料表面沉積薄膜
，包括金屬、半導體
、絕緣體等
。該系統(tǒng)主要由等離子體源
、反應室、氣體進料裝置
、真空泵等部分組成
。

02-23
旋轉管式爐的應用領域旋轉管式爐由于其特殊的設計和優(yōu)勢，在許多工業(yè)領域中都有廣泛的應用
。旋轉管式爐主要應用在哪些方面呢
？

02-21
箱式燒結爐-百科箱式燒結爐是一種用于燒結各種粉體材料的熱處理設備，廣泛應用于冶金
、陶瓷
、化工、電子等行業(yè)
。它采用高溫爐膛和加熱元件
，通過精確控制溫度和時間，使粉體材料在高溫下發(fā)生熱化學反應
，形成堅固的燒結體
。

02-19
氣氛爐-百科氣氛爐又名氣氛馬弗爐，是爐膛為箱形的加熱爐
。在氣氛爐中
，制品進行加熱、保溫和冷卻處理的整個加熱過程中制品固定不動
，進料和出料通過單一的門或槽進行
。氣氛爐的爐膛采用氧化鋁纖維制作，圍成加熱及熱風循環(huán)腔體
，熱空氣在爐膛內流動
，加強了爐膛內氣氛的對流和均熱作用
。

01-31
高溫箱式爐-百科高溫箱式爐是一種通用的加熱設備，也稱為高溫箱式電爐或高溫馬弗爐
。它采用硅鉬棒或硅碳棒作為加熱元件
，專為高等院校、科研院所的實驗室及工礦企業(yè)對陶瓷
、冶金
、電子、玻璃
、化工
、機械、耐火材料
、新材料開發(fā)
、特種材料、建材
、金屬
、非金屬及其它化和物材料進行燒結、融化
、分析
、生產而研制的專用設備。

01-30
光亮退火-百科光亮退火
，也被稱為光輝退火
，通常在密閉空間中進行。加熱退火后
，讓溫度在密閉空間中緩慢降至500度以下
，然后進行自然冷卻。這種方法可以避免脫碳情況的發(fā)生
，并提高金屬的光澤度
。與普通退火相比，普通退火過程中加熱和冷卻會導致氧化和脫碳
，這會增加金屬損失和成本
。因此，許多制造商更傾向于使用光亮退火
。

01-23
什么是CVD化學氣相沉積系統(tǒng)
？化學氣相沉積（CVD）是一種利用氣態(tài)或蒸氣態(tài)的化學物質通過化學反應在氣相或氣固界面上沉積出固態(tài)沉積物的方法。CVD技術被廣泛應用于材料制備
、表面處理和薄膜生長等領域
。

01-22
箱式爐 - 百科箱式爐，也被稱為馬弗爐
，是一種常見的實驗室加熱設備
。其操作簡單
、維修方便，爐后配有可控煙囪
。它主要用于對各種物料進行加熱
、熔融、燒結
、灰化等實驗操作
，尤其適用于煤炭、焦化產品
、化工原料的化學分析
，也廣泛應用于電力、煤炭
、造紙
、石化、水泥
、農牧、醫(yī)藥科研
、教學等行業(yè)和部門
。

01-09
陶瓷燒結爐-產品百科陶瓷燒結爐是一種用于燒制陶瓷制品的設備，具有恒溫
、恒濕
、隔熱等特點。它通常由爐體
、加熱元件
、控制系統(tǒng)等組成，爐體采用優(yōu)質保溫材料制成
，加熱元件通常采用電熱元件或燃氣熱元件
，控制系統(tǒng)則采用智能溫度控制儀表或PLC控制系統(tǒng)，可實現溫度
、濕度
、氣氛等工藝參數的自動控制。

01-04

箱式氣氛爐哪家好
？在熱處理和工業(yè)爐的應用中
，箱式氣氛爐扮演著關鍵的角色，用于控制材料的溫度和氣氛
，以確保最終產品具有理想的性能
。然而，選擇一家可靠的箱式氣氛爐供應商對于確保高效生產和質量關鍵的工業(yè)應用至關重要
。以下是一些考慮因素
，幫助您選擇一家優(yōu)質的箱式氣氛爐供應商
。

01-02

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